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光通讯芯片规模分类 一文,帮你捋顺所有芯片分类!
发布时间 : 2025-05-05
作者 : 小编
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一文,帮你捋顺所有芯片分类!

随着科技的飞速发展,芯片已经成为现代电子设备的核心。它们不仅控制和操作着各种设备,还决定着这些设备的性能和功能(还TMD决定着工资、房价、肉价……)。本文将向您介绍不同类型的芯片及其特点和应用。

首先,让我们来了解一下芯片的基本概念。芯片,也称为集成电路或微处理器,是一种将大量电子元件(如晶体管、电阻、电容等)集成在一块小硅片上的微型电子器件。根据功能、用途、工艺、原理等等,芯片的分类方式可谓是多种多样、五花八门、乱七八糟,今天就给大家捋一捋:

按功能分类

好生动的一张图

按照应用功能分为逻辑芯片、存储芯片、传感器芯片、电源芯片和通信芯片五大类。每个大类又可细分为若干小类。

芯片按照应用功能分类

按工作原理分类

如果按照工作原理,芯片可以分为模拟芯片和数字芯片两大类。

模拟芯片: 模拟芯片是处理连续性的光、声音、速度、温度等自然模拟信号(包括射频芯片、传感器芯片等等)。通常对芯片的工艺制程要求不高(尤其是大功率器件有时候衬底比工艺还贵),更注重组件的特性如可靠度、稳定度、能源转换效率、电压电流控制能力等。

数字芯片: 数字芯片的主要功能是实现数字信息传输,数字的基本功能包括存储、计算、运算等。(粗暴一点讲,数字芯片只会与、或、非三种计算[我想静静],请参考:用人话讲明白什么是RISC-V,但是科学家们仅仅依靠CPU的这三种逻辑运算能力,就能衍生出当今堪称万能的计算机软件。)其性能直接取决于单位面积内的晶体管数量,因此对工艺制程非常依赖。数模混合芯片: 顾名思义就好……

按应用场景分类

数据中心级芯片: 主要应用于云计算数据中心:包含CPU、GPU、内存、存储控制器、固态硬盘等,主要要求高性能、高稳定性、高可靠性。消费类芯片: 目前应用最广泛,市场占有率最高的芯片,应用于日常使用的电脑、手机等产品。工业芯片: 工业产品长期处于极高/低温、高湿、强盐雾和电磁辐射的恶劣环境,使用环境较苛刻,因此工业芯片必须具备稳定性、高可靠性和高安全性,且具备长服役寿命(以电力为例,要求工业芯片应用失效率。车规芯片: 主要是对温度环境要求严格,要在更宽泛的温度范围内都能使用。军工芯片: 跟国防军事工业领域有关的芯片,如卫星通信、制导、精准导航等。

按工艺制程分类

按照半导体芯片的工艺制程的演进历史又可以分为:

1971年,10μm工艺1974年,6μm工艺1977年,3μm工艺1982年,1.5μm工艺

1984年,ASML成立。

1985年,1μm工艺1989年,0.8μm工艺1994年,0.6μm工艺1995年,0.35μm工艺(有一说一,这里基本上是当前纯国产化工艺的制造极限,也就落后了不到30年……) 1997年,主节点:250nm工艺1999年,主节点:180nm工艺2001年,主节点:130nm工艺

2003年,ASML与台积电合作推出浸没式光刻机,至此ASML一举超越其他厂商,后来者居上。而同为光刻巨头的日本尼康、日本佳能主推的157nm光源干式光刻机被市场逐渐抛弃,两家公司由盛转衰。

2004年,主节点:90nm工艺2006年,主节点:65nm工艺2008年,主节点:45nm工艺2010年,主节点:32nm工艺2011年,主节点:22nm工艺

2013年,ASML推出第一台EUV量产产品,NXE:3300正式发货,进一步加强行业垄断地位。

2014年,主节点:14nm工艺2017年,主节点:10nm工艺2018年,主节点:7nm工艺2020年,主节点:5nm工艺2022年,主节点:3nm工艺

光刻机是国内最受关注的半导体设备,也是严重被卡脖子的设备,它的主要作用就是进行光刻制造,直接决定了半导体工艺制程上限。请参考:全球光刻机行业概览

你是否曾好奇,为什么半导体工艺制程是130nm、90nm、65nm、45nm、40nm、32nm、28nm、22nm、14nm、10nm、7nm、5nm、3nm这样发展?真的是摩尔定律的“摩”咒吗?欢迎查阅作者主页文章解惑:摩尔定律的“摩”咒

按半导体材料分类

我们通常所说的第一、二、三、四代半导体,就是根据衬底或外延的材质来划分的。就是说,只要你用到了新一代的材料,不管是衬底还是外延,就都可以自称是新一代的半导体。 比如说,你用单晶硅做衬底,然后在上面生长GaN外延,因为用到的材料里有GaN,所以硅基GaN也算是第三代半导体。

按半导体材料分类的一二三四代半导体

啥是衬底?啥是外延?你还傻傻分不清楚吗?可以参考这篇文章:衬底与外延,这俩到底是啥关系?这回帮你捋顺了!

按产业链分类

按照集成电产业的顺序,芯片又包含硅片制作、IC设计、晶圆制造以及封装测试五大流程。

集成电路制造的五大流程

芯片的制造可以分为前道工艺和后道工艺。前道工艺包括光刻、刻蚀、薄膜沉积、离子注入、清洗、化学机械抛光、量测等工艺。后道工艺包括减薄、划片、装片、键合等封装工艺以及终端测试等。

说出来你可能不信,我们不仅光刻机造不出来,就连放光刻机的洁净室都造不了!不信就看看这篇:半导体制造的洁净室,到底有多干净?

后记

根据需求差异,芯片的分类方式纷繁复杂,并没有一个固定的标准(其实更多时候就是非专业人士的YY,或者企业宣传的噱头罢了)。完全没有必要把每种分类都牢牢记住,有个大致印象,知道怎么回事就足够了,需要的时候提前再去查就行。

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